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Basic information

Name KOBAYASHI Shin-ichi

Start Date

2012-03

End Date

 

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Matter

SiH4+N2ガスを原料とするVHF-PECVD法によるSiNx低温成膜

Summary

 

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第59回応用物理学関係連合講演会、 16a-A6-6、 早稲田大学

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小林信一

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2011

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