位相欠陥がEUVマスク基板表面から多層を通って垂直方向に必ずしも伝搬するとは限らないため、位相欠陥構造がEUV（Extreme Ultraviolet）顕微鏡画像に及ぼす影響を調べて、ウエハへの位相欠陥の影響の傾斜角依存性を予測した。透過電子顕微鏡観察の結果、基板表面からのバンプ位相欠陥は、多層膜の最表面に達するにつれて多層膜を通って基板の中心に向かって伝播した。基板中心から0mmと66mmの距離では、傾斜角は0度から4度まで変化した。 EUV顕微鏡での実波長観察では、傾斜角の影響が有意に存在することが明