学術論文
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Design, fabrication, and test of an EUV mask imaging microscope for lithography generations with sub-16 nm half pitch
サブ16nm世代用のEUVリソグラフィマスク観察顕微鏡システムの光学設計、実装及び評価に関する研究
学会発表要旨
M. Toyoda, K. Yamasoe, M. Yanagihara, T. Amano, T. Terasawa, A. Tokimasa,T.Harada, T. Watanabe, H. Kinoshita
2013/01
2013 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography (Toyama, Japan)
2012
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