極紫外線（EUV）顕微鏡に期待される高い空間分解能を実証するために、ハーフピッチが100nm未満の微細な格子パターンを持つリソグラフィマスクを作製し、これを多層膜ミラーによる対物光学系で構成した結像型顕微鏡を用いて観察した。傾斜照明技術を、この新型顕微鏡に適用すると、波長13.5nmにおいて20nmより良好な空間分解能が期待できる。論文では、テスクマスク上のハーフピッチ30〜80nmの格子パターンのEUV反射像を観察することで、顕微鏡が回折限界に迫る高解像度を持つことを初めて実証した。