学術論文
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An EUV Mask-imaging Microscope for Lithography Generations with sub-16 nm Half Pitch
サブ16nm世代用のEUVリソグラフィマスク観察顕微鏡システムの開発
学会発表要旨
M. Toyoda, K. Yamasoe, K. Uchida, M. Yanagihara, A. Tokimasa, T. Harada, H. Kinoshita, T. Amano, T. Terasawa)
2012/01
25th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (Kobe, Japan)
2011
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