波長31nm領域用の多層膜回折格子を開発した。ラミナー型ホログラフィックグレーティングを基板とし、その表面にMo / Si多層膜を成膜した。作製した格子の回折効率を入射角10°に対して波長27〜35nmの領域で測定した。0次光は、ラミナー型の溝形状による負の干渉効果によってほとんど抑制された。 一方で1次光の回折効率は31nmで最大値をとり、4.8％であった。また、波長28nmから32nmの範囲で入射角10°の光線に対し実用的な回折効率が得られることを実証した。