強磁性および反強磁性結合したFe / Si / Fe三層サンプルの深さ分解磁気円二色性（MCD）スペクトルを、軟X線定在波分光の援用によりFe L2,3吸収端近傍で測定した。さらに、軟X線蛍光（SXF）分光法を用いて試料の相互拡散層の物理化学的状態も評価した。界面の異方性に起因する軌道磁気モーメントの増大は、Fe3Siで構成される相互拡散層により生じることが、両方試料について見出された。これは、SXF測定が化学状態の計測を通し、埋もれた界面の磁気状態をある程度予測することを可能にすることを意味する。