学術論文

基本情報

氏名 豊田光紀
氏名(カナ) トヨダ ミツノリ
氏名(英語) TOYODA Mitsunori

題名

Simulation Analysis of the Characteristics of a High Magnification Imaging Optics for the Observation of Extreme Ultraviolet Lithography Mask to Predict Phase Defect Printability

概要

数値シミュレーションにより、EUVLマスクの検査に用いた高倍率多層膜ミラーの光学特性を解析し、位相欠陥の転写特性について検討した。結像光学系は、Schwarzschild光学系および凹面鏡による輪帯瞳レンズ、および、傾斜コヒーレント照明を仮定した。位相欠陥の影響を考慮した16nmおよび11nm世代のハーフピッチパターンを物体とし、それらのシミュレーション結果を、露光装置で形成した縮小投影画像と比較した。

種別

学術論文

共著者名

T. Terasawa, Y. Arisawa, T. Amano, T. Yamane, H. Watanabe, M. Toyoda, T. Harada, H. Kinoshita

発行又は発表の年月

2013/08

発行所

Jpn. J.Appl .Phys.

巻・号

52(2013)

掲載ページ

096601

DOI*/ISBN*

 

年度

2013

備考