学術論文

基本情報

氏名 江崎ひろみ
氏名(カナ) エザキ ヒロミ
氏名(英語) EZAKI Hiromi

題名

Optical lithography at half the Rayleigh resolution limit by two-photon absorption resist_

概要

 

種別

学術論文

共著者名

H. Ezaki and M Shibuya_

発行又は発表の年月

2003/07

発行所

”Proceeding of the symposium on Optical Microlithography XVI_ The International Society for Optical Engineering_

巻・号

5040_

掲載ページ

pp.1270-1275_

DOI*/ISBN*

 

年度

2003

備考