作品・発表
年月日(開始)
年月日(終了)
種別
題名(事項)
概要
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発表場所(学会名、会場名等)
共同制作・発表者(名義)
受賞・表彰名
開催地(海外の場合は国名)
主催者
年度
備考
基本情報
氏名
内田孝幸
氏名(カナ)
ウチダ タカユキ
氏名(英語)
UCHIDA Takayuki
年月日(開始)
2008/03
年月日(終了)
種別
学会発表(国内学会)
題名(事項)
スプレーCVD法による無添加酸化スズ薄膜のライン形状基板への堆積
概要
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発表場所(学会名、会場名等)
2008年度応用物理学会、日大船橋
共同制作・発表者(名義)
近藤剛史1、舟窪 浩2、秋山賢輔3、遠田浩之1、関 良之1、王 美涵1、内田孝幸1、澤田 豊1
受賞・表彰名
開催地(海外の場合は国名)
日大船橋
主催者
年度
2007
備考