作品・発表
年月日(開始)
年月日(終了)
種別
題名(事項)
概要
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発表場所(学会名、会場名等)
共同制作・発表者(名義)
受賞・表彰名
開催地(海外の場合は国名)
主催者
年度
備考
基本情報
氏名
内田孝幸
氏名(カナ)
ウチダ タカユキ
氏名(英語)
UCHIDA Takayuki
年月日(開始)
2008/09
年月日(終了)
 
種別
学会発表(国内学会)
題名(事項)
スプレーCVD法によるライン形状基板へ堆積したITO薄膜の電気特性
概要
 
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発表場所(学会名、会場名等)
(第69回)応用物理学会学術講演会
共同制作・発表者(名義)
近藤剛史、舟窪 浩、秋山賢輔、遠田浩之、関 良之、王 美涵、内田孝幸、澤田 豊
受賞・表彰名
 
開催地(海外の場合は国名)
名古屋、中部大学
主催者
 
年度
2008
備考