作品・発表
年月日(開始)
年月日(終了)
種別
題名(事項)
概要
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発表場所(学会名、会場名等)
共同制作・発表者(名義)
受賞・表彰名
開催地(海外の場合は国名)
主催者
年度
備考
基本情報
氏名
内田孝幸
氏名(カナ)
ウチダ タカユキ
氏名(英語)
UCHIDA Takayuki
年月日(開始)
2008/12
年月日(終了)
 
種別
学会発表(国内学会)
題名(事項)
スプレーCVD 法によるZnO 系薄膜の作製と評価:その2
概要
 
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発表場所(学会名、会場名等)
第3回日本フラックス成長研究発表会(国士館大学)
共同制作・発表者(名義)
遠田浩之、近藤剛史、石切山千尋、澤田 豊、 内田孝幸、関 成之、羽賀浩一、宍戸統悦
受賞・表彰名
 
開催地(海外の場合は国名)
東京
主催者
 
年度
2008
備考