学術論文

基本情報

氏名 内田孝幸
氏名(カナ) ウチダ タカユキ
氏名(英語) UCHIDA Takayuki

題名

Reactive sputter deposition of WO3 films by using two deposition methods

概要

 

種別

学術論文

共著者名

Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Meihan Wang, and Hao Lei

発行又は発表の年月

2019/05

発行所

Journal of Vacuum Science & Technology

巻・号

A 37, 031514

掲載ページ

(031514) 1-6

DOI*/ISBN*

https://doi.org/10.1116/1.5092863

年度

2019

備考