学術論文
題名
概要
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種別
共著者名
発行又は発表の年月
発行所
巻・号
掲載ページ
DOI*/ISBN*
年度
備考
基本情報
氏名
内田孝幸
氏名(カナ)
ウチダ タカユキ
氏名(英語)
UCHIDA Takayuki
題名
Reactive sputter deposition of WO
3
films by using two deposition methods
概要
 
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種別
学術論文
共著者名
Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Meihan Wang, and Hao Lei
発行又は発表の年月
2019/05
発行所
Journal of Vacuum Science & Technology
巻・号
A 37, 031514
掲載ページ
(031514) 1-6
DOI*/ISBN*
https://doi.org/10.1116/1.5092863
年度
2019
備考