Initial oxidation characteristics of air-exposed silicon nitride films grown at low substrate temperature using very-high-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition
概要
 
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発表場所(学会名、会場名等)
TACT2017, The 5th International Thin Films Conference, 東華大学
共同制作・発表者(名義)
 
受賞・表彰名
 
開催地(海外の場合は国名)
台湾
主催者
Taiwan Association for Coating and Thin Film Technology (TACT)